前世，EUV光刻机的联合研发成功几乎逼近当时人类物理学、材料学以及精密制造的极限，除了光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别说ASML或Nikon，就算是科技实力世界第一的美国，以一国之力，完全自主制造一台EUV光刻机，比登天还难。

    《我的一九八五》第一三八二章 秘而不宣

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